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|title=Excimerlaser
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<metadesc>Excimerlaser zählen zu den leistungsstärksten Quellen für Strahlung im ultravioletten Wellenlängenbereich </metadesc>
Excimerlaser sind Gaslaser, deren aktives Medium aus zweiatomigen Molekülen (z.B. Ar<sub>2</sub>, Kr<sub>2</sub>, F<sub>2</sub>, Xe<sub>2</sub>) besteht, die nur im angeregten Zustand stabil sind (englisch ''eximer = excited dimers''). Heutzutage werden vorrangig auch Edelgas-Halogenide (z.B. ArF, KrCl, KrF, XeBr, XeF) eingesetzt und ebenfalls als Excimerlaser bezeichnet. Excimerlaser emittieren Strahlung im ultravioletten Wellenlängenbereich, wobei die genaue Wellenlänge durch das bei der Anregung entstehende Molekül festgelegt ist und zwischen 108 nm und 351 nm liegt. Excimerlaser können nur gepulst betrieben werden. Die Pulsdauer liegt meist zwischen 10 und 40 ns.
== Anwendungen ==
Excimerlaser sind zurzeit die flexibelsten und leistungsstärksten Quellen kohärenter Strahlung im ultravioletten Wellenlängenbereich. Die kurzwellige UV-Strahlung eignet sich besonders gut für nichtthermische Materialabtragung und Anwendungen mit hoher Präzision, wie z.B. im Bereich der Medizin für Augenoperationen und Gewebeablation oder in der Industrie für die Mikromaterialbearbeitung, insbesondere der Lithographie.
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Excimerlaser sind Gaslaser, deren aktives Medium aus zweiatomigen Molekülen (z.B. Ar<sub>2</sub>, Kr<sub>2</sub>, F<sub>2</sub>, Xe<sub>2</sub>) besteht, die nur im angeregten Zustand stabil sind (englisch ''eximer = excited dimers''). Heutzutage werden vorrangig auch Edelgas-Halogenide (z.B. ArF, KrCl, KrF, XeBr, XeF) eingesetzt und ebenfalls als Excimerlaser bezeichnet. Excimerlaser emittieren Strahlung im ultravioletten Wellenlängenbereich, wobei die genaue Wellenlänge durch das bei der Anregung entstehende Molekül festgelegt ist und zwischen 108 nm und 351 nm liegt. Excimerlaser können nur gepulst betrieben werden. Die Pulsdauer liegt meist zwischen 10 und 40 ns.
== Anwendungen ==
Excimerlaser sind zurzeit die flexibelsten und leistungsstärksten Quellen kohärenter Strahlung im ultravioletten Wellenlängenbereich. Die kurzwellige UV-Strahlung eignet sich besonders gut für nichtthermische Materialabtragung und Anwendungen mit hoher Präzision, wie z.B. im Bereich der Medizin für Augenoperationen und Gewebeablation oder in der Industrie für die Mikromaterialbearbeitung, insbesondere der Lithographie.
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