ETEL S.A.
139
Produkte
TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST TEST
HerstellerETEL S.A.
Produktgruppe Positioniersysteme
ProduktbezeichnungTELICA DUAL GANTRY MOTION SYSTEM
TELICA ist eine mehrachsige Plattform, die sich hauptsächlich auf Halbleiter-Backend-Anwendungen konzentriert. Seine duale Portalarchitektur ermöglicht Bewegungen entlang von 3 Freiheitsgraden, X, Y und Z, für eine Gesamtzahl von 8 gesteuerten Achsen. Es wurde entwickelt, um die anspruchsvollsten Anforderungen fortschrittlicher Die-Bonding-Prozesse (Flip-Chip, Fan-out, 3D-Stapelgehäuse), µ-LED-Bonden, Dosieranwendungen und mehr zu erfüllen. Konventionelle Bewegungssystemarchitekturen sind durch ihr Design IMMER auf hohe Positioniergenauigkeit oder hohen Durchsatz optimiert. Dank einer sehr innovativen Bewegungssystemarchitektur erfüllt TELICA BEIDE SIMULTAN mit ±1 µm globaler Platzierungsgenauigkeit (Blindbewegung) bei einem Durchsatz von 10 kUPH für eine typische Flip-Chip-Die-Bonding-Anwendung und bis zu 180 kUPH für µ-LED-Bonding. TELICA Doppelportal-Bewegungssystem TELICA ist in zwei Standardvarianten erhältlich: Variante 1 für Wafer Level Packages (WLP) mit X410 x Y445 x Z30 mm Verfahrwegen und Variante 2 für Panel Level Packages (PLP) mit X750 x Y800 x Z30 mm Verfahrwegen. TELICA stellt einen neuen metrologischen Ansatz vor, der die Abbé-Fehler sowie die relative Positionsabweichung zwischen Prozesswerkzeug und Substrat drastisch reduziert. Mehrdimensionale Drehgeber sorgen für die hohe Positioniergenauigkeit, während wassergekühlte Eisenkernmotoren extreme Betriebszyklen ermöglichen. In Verbindung mit den hochmodernen AccurET-Steuerungen von ETEL profitiert die TELICA-Plattform von mehreren Steuerungsfunktionen wie: Nullstellzeit, nichtlineare Steuerung, fortschrittliche Vorwärts- und Trajektorienfilter, vollständige Synchronisation aller Achsen mit Nanosekunden-Jitter, ein spezifischer Gantry-Steuerungsalgorithmus, multidimensionales Mapping, erweiterte Triggerfunktionen basierend auf der realen gemappten Position, fortschrittliche Softwarediagnose und Systemidentifikationswerkzeuge zur Steuerungsoptimierung. Hauptspezifikationen ±350 nm lokale Platzierungsgenauigkeit (bewegt sich mit lokaler Ausrichtung) ±1 µm globale Platzierungsgenauigkeit (Blindbewegungen)